Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Musterbildung damit

EP1795961 Art A1 13. Juni 2007

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1795961
Aktenzeichen: EP06025354
Anmeldetag: 7. Dezember 2006
Veröffentlichung: 13. Juni 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/075G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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