Cmp-Poliermittel und Verfahren zum Polieren eines Substrats

EP1796152 Art B1 27. Februar 2019

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1796152
Aktenzeichen
EP05766424
Anmeldetag
20. Juli 2005
Veröffentlichung
27. Februar 2019
Erteilung
27. Februar 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/3105C09G1/02C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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