Vorrichtung zur Erzeugung von Extremem Uv-Licht und Anwendung auf eine Lithografiequelle mit Extremer Uv-Strahlung
EP1800188
Art B1
7. Mai 2008
Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE, Alcatel Vacuum Technology France 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1800188
- Aktenzeichen
- EP05777195
- Anmeldetag
- 14. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2008
- Erteilung
- 7. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
Alcatel Vacuum Technology France - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
5.929 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Thévenet, Jean-Bruno
Paris, Frankreich
1.392
Patente gesamt
32
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte