Substrat, das zwei Silikonharz antireflektive Schichten zwischen einer organischen Schicht und einer Fotolackschicht enthält, sein Herstellungsverfahren und Musterungsprozess
EP1801619
Art B1
6. August 2008
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1801619
- Aktenzeichen
- EP06256130
- Anmeldetag
- 30. November 2006
- Veröffentlichung
- 6. August 2008
- Erteilung
- 6. August 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Thomson, Craig Richard
Glasgow, Großbritannien
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