Optisches Weitwinkelsystem für eine Aufnahmevorrichtung
EP1801629
Art A1
27. Juni 2007
Anmelder: Enplas Corporation, ENPLAS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1801629
- Aktenzeichen
- EP06126629
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 27. Juni 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Enplas Corporation
ENPLAS CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Enplas
Enplas ist ein japanischer Hersteller optischer und feinmechanischer Kunststoffkomponenten, unter anderem für Displays, Steckverbinder und Halbleitertests. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Mess- und Beleuchtungstechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
606 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
McIlroy, Steven David
Glasgow, Großbritannien
160
Patente gesamt
29
Fachgebiete
15
Anmelder-Länder
Schwerpunkte