Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von Halbleiterwafer-Oberflächen mittels mehrerer, in nächster Nähe zu den Waferoberflächen angebrachter Ein- und Auslässe
EP1801851
Art B1
2. Mai 2012
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1801851
- Aktenzeichen
- EP07007143
- Anmeldetag
- 30. September 2003
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2012
- Erteilung
- 2. Mai 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Kanzlei
Forresters IP LLP
München, Deutschland
Forresters IP LLP feierte 2024 sein 140-jähriges Bestehen, gegründet bereits 1884, und zählt zu Großbritanniens traditionsreichsten IP-Kanzleien mit Büros in München, London, Birmingham und Liverpool. Alle Patentanwälte sind European Patent Attorneys, die Financial Times zählte sie mehrfach zu Europas führenden Patentkanzleien.
11.380
Patente gesamt
5
Patentanwälte
1
Standorte
Weitere Vertreter
-
Wombwell, Francis
NoneBirkenhead