Methode für ein selektives epitaktisches Wachstum von Source/Drain Gebieten
EP1801864
Art B1
18. November 2009
Anmelder: IMEC, Inter-Universitair Microelektronica Centrum 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1801864
- Aktenzeichen
- EP05447290
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 18. November 2009
- Erteilung
- 18. November 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/336H01L21/8238H01L21/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
Inter-Universitair Microelektronica Centrum - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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Vertreten von
Van Malderen, Joëlle
Liège, Belgien
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