Reflektierende Lithographiemaske und Verfahren zu deren Herstellung
EP1803031
Art B1
2. Januar 2008
Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1803031
- Aktenzeichen
- EP05815864
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2008
- Erteilung
- 2. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
5.929 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Poulin, Gérard
Paris, Frankreich
1.981
Patente gesamt
33
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19
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Schwerpunkte