Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung unter Verwendung dieser Zusammensetzung
EP1804120
Art A1
4. Juli 2007
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1804120
- Aktenzeichen
- EP06026966
- Anmeldetag
- 27. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München