Polysilicium-Germanium -Gate-Stapel und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP1805802
Art A2
11. Juli 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1805802
- Aktenzeichen
- EP05794913
- Anmeldetag
- 7. September 2005
- Veröffentlichung
- 11. Juli 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/49H01L21/28H01L29/51
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
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