System und Verfahren zur Bildung einer gleichmässigen Siliziumoxidschicht mit mehreren Ebenen für optische Anwendungen
EP1808888
Art A2
18. Juli 2007
Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1808888
- Aktenzeichen
- EP07100603
- Anmeldetag
- 16. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316// H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Honeywell International Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
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Haley, Stephen
London, Großbritannien
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