Sputtertarget zur Herstellung eines Films aus Metallischem Glas und Herstellungsverfahren dafür
EP1813694
Art B1
20. Juni 2018
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, TOHOKU UNIVERSITY, Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1813694
- Aktenzeichen
- EP05800317
- Anmeldetag
- 4. November 2005
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2018
- Erteilung
- 20. Juni 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F9/08C22C5/04C22C9/00C22C16/00C22C19/03C22C19/07C22C38/00B01D67/00B01D71/02C01B3/50C22C45/00C22C45/02C22C45/04C22C45/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
TOHOKU UNIVERSITY
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Tohoku University
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
837 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte