Sputtertarget zur Herstellung eines Films aus Metallischem Glas und Herstellungsverfahren dafür
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, TOHOKU UNIVERSITY, Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1813694
- Aktenzeichen
- EP05800317
- Anmeldetag
- 4. November 2005
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2018
- Erteilung
- 20. Juni 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F9/08C22C5/04C22C9/00C22C16/00C22C19/03C22C19/07C22C38/00B01D67/00B01D71/02C01B3/50C22C45/00C22C45/02C22C45/04C22C45/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
TOHOKU UNIVERSITY
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.088 Patente in unserer Datenbank
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
2.165 Patente in unserer Datenbank
Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.
291 Patente in unserer Datenbank