Sulfonsäureesterhaltige Zusammensetzung zur Erzeugung eines Antireflexionsfilms für die Lithographie

EP1813987 Art B1 24. August 2011

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1813987
Aktenzeichen: EP05805242
Anmeldetag: 25. Oktober 2005
Veröffentlichung: 24. August 2011
Erteilung: 24. August 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/033G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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