Verringerung der Dicke von Halbleiterwafern

EP1815509 Art A2 8. August 2007

Anmelder: STMICROELECTRONICS SA 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1815509
Aktenzeichen
EP05819228
Anmeldetag
17. November 2005
Veröffentlichung
8. August 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/68
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
STMICROELECTRONICS SA
Land
🇫🇷 Frankreich
🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

4.265 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen