Neue Sulfoniumverbindung, diese enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren unter Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung
EP1816519
Art B1
3. November 2010
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1816519
- Aktenzeichen
- EP07002532
- Anmeldetag
- 6. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 3. November 2010
- Erteilung
- 3. November 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/029C07D333/76
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München