Fotoresistzusammensetzung mit Chemischer Verstärkung, Fotoresistschichtlaminat, Verfahren zur Herstellung einer Fotoresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Fotoresiststruktur und Verfahren zur Herstellung eines Verbindungsanschlusses
EP1818722
Art A1
15. August 2007
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1818722
- Aktenzeichen
- EP04821365
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 15. August 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
van Heuvel, Margaretha
Delft, Niederlande
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