Zusammensetzung zur Bildung eines Antireflexionsfilms, Beschichtetes Produkt und Verfahren zur Herstellung einer Resiststruktur

EP1818723 Art B1 4. Mai 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1818723
Aktenzeichen: EP05809661
Anmeldetag: 28. November 2005
Veröffentlichung: 4. Mai 2011
Erteilung: 4. Mai 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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