Lithographische Projektionsvorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1818977
Art A3
17. Oktober 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1818977
- Aktenzeichen
- EP07250479
- Anmeldetag
- 6. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Holding N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
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