Verfahren zum Entfernen von Schwarzem Silizium und Schwarzem Siliziumcarbid von Siliziumflächen und Siliziumcarbidelektroden für Plasmabehandlungsvorrichtungen

EP1827871 Art B1 9. März 2016

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1827871
Aktenzeichen
EP05854301
Anmeldetag
15. Dezember 2005
Veröffentlichung
9. März 2016
Erteilung
9. März 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32B44C1/22
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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