Verwendung von CL2 Und/oder Hcl Während der Bildung eines Silizium-Epitaxialfilms
EP1829089
Art A2
5. September 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1829089
- Aktenzeichen
- EP05852606
- Anmeldetag
- 30. November 2005
- Veröffentlichung
- 5. September 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Fachgebiete
Vertreten von
Zimmermann, Gerd Heinrich
München, Deutschland
751
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31
Fachgebiete
7
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