Herstellungsverfahren für ein Grosses Glassubstrat für eine Fotomaske, Verfahren zur Belichtung eines Mutterglases, und Computerlesbares Aufzeichnungsmedium
EP1829836
Art B1
16. Januar 2013
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Shinetsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1829836
- Aktenzeichen
- EP06766585
- Anmeldetag
- 12. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2013
- Erteilung
- 16. Januar 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/38G03F7/20C03C19/00H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Shinetsu Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
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10
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Schwerpunkte