Verfahren und Vorrichtung für den Sequenziellen Wechsel von Plasmaprozessen zur Optimierung eines Substrats
EP1831429
Art A2
12. September 2007
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1831429
- Aktenzeichen
- EP05854442
- Anmeldetag
- 16. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 12. September 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23F4/00C23C14/02C23C16/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Browne, Robin Forsythe
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