Gatestruktur und Herstellungsverfahren dafür

EP1831929 Art A1 12. September 2007

Anmelder: STMicroelectronics (Crolles 2) SAS, NXP B.V., Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1831929
Aktenzeichen
EP05810641
Anmeldetag
5. Oktober 2005
Veröffentlichung
12. September 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/49H01L21/8238
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
STMicroelectronics (Crolles 2) SAS
NXP B.V.
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Land
🇫🇷 Frankreich
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

7.818 Patente in unserer Datenbank

🇳🇱 Philips

Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.

43.499 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen