Linienverschmälerungsmodul

EP1831974 Art B1 8. Februar 2017

Anmelder: Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1831974
Aktenzeichen
EP05826233
Anmeldetag
28. November 2005
Veröffentlichung
8. Februar 2017
Erteilung
8. Februar 2017
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H01S3/08H01S3/097H01S3/1055H01S3/106H01S3/225H01S3/00H01S3/036
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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