Fotomaskenrohling und Herstellungsverfahren für eine Fotomaske
EP1832926
Art B1
31. Dezember 2014
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1832926
- Aktenzeichen
- EP07251015
- Anmeldetag
- 12. März 2007
- Veröffentlichung
- 31. Dezember 2014
- Erteilung
- 31. Dezember 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
1.905 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
33
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte