Reinigungsflüssigkeit für die Lithographie und Verfahren zur Resiststrukturausbildung
EP1832931
Art A1
12. September 2007
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1832931
- Aktenzeichen
- EP05811391
- Anmeldetag
- 29. November 2005
- Veröffentlichung
- 12. September 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/32H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hayes, Adrian Chetwynd
London, Großbritannien
1.713
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23
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