Beleuchtungsvorrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einem optischen Element aus einem uniaxialen Kristall mit mehreren parallel oder senkrecht zur Kristallachse angeordneten refraktiven oder diffraktiven Strukturen
EP1835312
Art B1
4. Mai 2011
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1835312
- Aktenzeichen
- EP07103867
- Anmeldetag
- 9. März 2007
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2011
- Erteilung
- 4. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B1/08G02B3/00G02B27/00G03B27/72
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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