Siliziumhaltige Lichtempfindliche Zusammensetzung, Verfahren zur Bildung einer Dünnfilmstruktur unter deren Verwendung, Schutzfilm für eine Elektronische Einrichtung, Gate-Isolationsfilm und Dünnfilmtransistor
EP1835344
Art A1
19. September 2007
Anmelder: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD., Matsukawa, Kimihiro, Matsuura, Yukihito 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1835344
- Aktenzeichen
- EP05822681
- Anmeldetag
- 28. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 19. September 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/075G02B5/20G03F7/004G03F7/038G11C11/42H01L21/027H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
Matsukawa, Kimihiro
Matsuura, Yukihito - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
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Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
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