Reinigungslösung für ein Substrat zur Verwendung bei Halbleitervorrichtungen und Reinigungsverfahren damit
EP1837393
Art A3
21. Mai 2008
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1837393
- Aktenzeichen
- EP07005841
- Anmeldetag
- 21. März 2007
- Veröffentlichung
- 21. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C11D1/44C11D3/00C11D3/20C11D11/00H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München