Haltestruktur und Lithographische Vorrichtung
EP1839091
Art A1
3. Oktober 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1839091
- Aktenzeichen
- EP04808823
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
van Loon, C.J.J
NoneDen Haag