Reinigungsverfahren für die Verunreinigungsbeseitigung bei Siliziumelektroden-Baugruppenoberflächen

EP1839330 Art A2 3. Oktober 2007

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1839330
Aktenzeichen
EP05854223
Anmeldetag
15. Dezember 2005
Veröffentlichung
3. Oktober 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/302C23G1/02C11D11/00C11D7/26C11D7/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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