Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP1840651 Art A1 3. Oktober 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1840651
Aktenzeichen: EP07006249
Anmeldetag: 27. März 2007
Veröffentlichung: 3. Oktober 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von