Verfahren zum Reinigen einer Halbleiterverarbeitungsvorrichtung und Verfahren zum Ätzen eines Siliziumsubstrats
EP1840946
Art A1
3. Oktober 2007
Anmelder: Taiyo Nippon Sanso Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1840946
- Aktenzeichen
- EP05819632
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/3065H01L21/316
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Taiyo Nippon Sanso Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Taiyo Nippon Sanso
Taiyo Nippon Sanso ist ein japanischer Hersteller von Industriegasen und zugehörigen Anlagen, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Der Patentbestand konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Wärme-, Fertigungs- und Werkstofftechnik.
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Smyth, Gyles Darren
London, Großbritannien
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