Plasma-Verarbeitungsverfahren

EP1840950 Art A1 3. Oktober 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1840950
Aktenzeichen: EP06702108
Anmeldetag: 5. Januar 2006
Veröffentlichung: 3. Oktober 2007
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/316// H01L27/14H05H1/46H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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