Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschicht

EP1840979 Art B1 30. November 2011

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1840979
Aktenzeichen: EP07006263
Anmeldetag: 27. März 2007
Veröffentlichung: 30. November 2011
Erteilung: 30. November 2011
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/205C30B25/10C30B29/40// H01L27/15H01L33/32H01S5/343

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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