Verfahren zum Entfernen von Defektmaterial einer Lithographiemaske

EP1842098 Art A1 10. Oktober 2007

Anmelder: Qimonda AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1842098
Aktenzeichen
EP06703614
Anmeldetag
26. Januar 2006
Veröffentlichung
10. Oktober 2007
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Qimonda AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Qimonda

Qimonda war ein deutscher Halbleiterhersteller mit Sitz in München, der 2006 aus dem Speicherchip-Geschäft von Infineon hervorging und 2009 insolvent wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung, insbesondere DRAM- und resistive Speichertechnologien. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus der kurzen Unternehmensgeschichte zwischen 2000 und 2008.

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