Verfahren zur Entfernung von Gas auf Halogenbasis und Mittel zur Entfernung von Gas auf Halogenbasis

EP1842579 Art A1 10. Oktober 2007

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1842579
Aktenzeichen
EP05809764
Anmeldetag
24. November 2005
Veröffentlichung
10. Oktober 2007
Rechtsraum
EP
IPC
B01D53/68B01D53/46B01J20/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Asahi Glass Company, Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.331 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen