Schutzmembrane für Lithographie
EP1843201
Art B1
18. Januar 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1843201
- Aktenzeichen
- EP07005629
- Anmeldetag
- 19. März 2007
- Veröffentlichung
- 18. Januar 2012
- Erteilung
- 18. Januar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/62
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Kanzlei
Patentanwaltskanzlei Müller
München, Deutschland
Aus der 2006 mitbegründeten Sozietät Müller & Schubert hervorgegangene Münchner Kanzlei, seit 2020 Teil der Bürogemeinschaft emescon. Betreut Mandate aus Maschinenbau, Kunststofftechnik, Optik, IKT sowie erneuerbaren Energien.
263
Patente gesamt
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Patentanwälte
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