Verfahren zur Durchführung von Dunkelfeld-Doppeldipollithografie
EP1843202
Art B1
18. Februar 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML MaskTools B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1843202
- Aktenzeichen
- EP07251507
- Anmeldetag
- 5. April 2007
- Veröffentlichung
- 18. Februar 2015
- Erteilung
- 18. Februar 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML MaskTools B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Weenink, Willem
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon