Verfahren zur Ausrichtung und Belichtung eines Substrats
EP1843210
Art A3
28. November 2007
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1843210
- Aktenzeichen
- EP07251283
- Anmeldetag
- 26. März 2007
- Veröffentlichung
- 28. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
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