Verfahren und System zur Reinigung eines Substrats und Programmspeichermedium
EP1848023
Art B1
5. November 2008
Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1848023
- Aktenzeichen
- EP07007508
- Anmeldetag
- 12. April 2007
- Veröffentlichung
- 5. November 2008
- Erteilung
- 5. November 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00B08B3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoffmann, Klaus
München, Deutschland
108
Patente gesamt
27
Fachgebiete
11
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Schwerpunkte