Hochentwickelte Chemische Dampfabscheidungsschichten mit Siliciumorganischem Plasma mit Niedriger Dielektrischer Konstante
EP1849183
Art A2
31. Oktober 2007
Anmelder: International Business Machines Corporation, Sony Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1849183
- Aktenzeichen
- EP06735050
- Anmeldetag
- 14. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 31. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- International Business Machines Corporation
Sony Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
9.753 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Sony Group
Japanischer Technologie- und Unterhaltungskonzern mit Sitz in Tokio. Sony entwickelt Unterhaltungselektronik, Bildsensoren, Spielesysteme sowie Musik- und Filmangebote.
30.400 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Burt, Roger James
Winchester, Großbritannien
204
Patente gesamt
18
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte