Verfahren und Systeme zur Bestimmung von Überlagerungsfehlern auf Basis der Symmetrie von Zielbildern
EP1851507
Art B1
26. September 2018
Anmelder: Nanometrics Incorporated, Industrial Technology Research Institute, Accent Optical Technologies Nanometrics, Inc., Accent Optical Technologies, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1851507
- Aktenzeichen
- EP06735659
- Anmeldetag
- 22. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 26. September 2018
- Erteilung
- 26. September 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nanometrics Incorporated
Industrial Technology Research Institute
Accent Optical Technologies Nanometrics, Inc.
Accent Optical Technologies, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇹🇼
Industrial Technology Research Institute
Taiwanisches Forschungsinstitut für angewandte Technologie, entwickelt und überträgt Innovationen aus Elektronik, Materialwissenschaft und Industrietechnik in die Wirtschaft.
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Freeman, Jacqueline Carol
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