Verfahren und Systeme zur Bestimmung von Überlagerungsfehlern auf Basis der Symmetrie von Zielbildern

EP1851507 Art B1 26. September 2018

Anmelder: Nanometrics Incorporated, Industrial Technology Research Institute, Accent Optical Technologies Nanometrics, Inc., Accent Optical Technologies, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1851507
Aktenzeichen
EP06735659
Anmeldetag
22. Februar 2006
Veröffentlichung
26. September 2018
Erteilung
26. September 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Nanometrics Incorporated
Industrial Technology Research Institute
Accent Optical Technologies Nanometrics, Inc.
Accent Optical Technologies, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇹🇼 Industrial Technology Research Institute

Taiwanisches Forschungsinstitut für angewandte Technologie, entwickelt und überträgt Innovationen aus Elektronik, Materialwissenschaft und Industrietechnik in die Wirtschaft.

734 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen