Optisches System, insbesondere Objektiv- oder Beleuchtungssystem, für eine Vorrichtung zur Belichtung einer Mikrolithographischen Projektion
EP1851574
Art A1
7. November 2007
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1851574
- Aktenzeichen
- EP06708459
- Anmeldetag
- 22. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 7. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/30G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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