Verfahren zur Herstellung einer Seichten Grabenisolationsstruktur mit Oxidseitenwand-Abstandsschichten

EP1851793 Art A1 7. November 2007

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1851793
Aktenzeichen
EP06720742
Anmeldetag
15. Februar 2006
Veröffentlichung
7. November 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762H01L29/06H01L21/311
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Honeywell International Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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