Verfahren zur Herstellung einer Seichten Grabenisolationsstruktur mit Oxidseitenwand-Abstandsschichten
EP1851793
Art A1
7. November 2007
Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1851793
- Aktenzeichen
- EP06720742
- Anmeldetag
- 15. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 7. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L29/06H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Honeywell International Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
13.051 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Buckley, Guy Julian
Bakewell, Großbritannien
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Haley, Stephen
NoneLondon