Selektiver Plasma-Neuoxidationsprozess mit Gepulster-Hf-Quellenleistung
EP1851795
Art A2
7. November 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1851795
- Aktenzeichen
- EP06719894
- Anmeldetag
- 30. Januar 2006
- Veröffentlichung
- 7. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8234H01L21/31H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Zimmermann, Gerd Heinrich
München, Deutschland
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