Lithographische Vorrichtung und Verfahren

EP1852746 Art A3 19. Dezember 2007

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1852746
Aktenzeichen
EP07251894
Anmeldetag
4. Mai 2007
Veröffentlichung
19. Dezember 2007
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von
Weenink, Willem Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
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