Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterwafers und Verfahren zur Spiegelabkantung eines Halbleiterwafers
EP1852899
Art A1
7. November 2007
Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1852899
- Aktenzeichen
- EP06713170
- Anmeldetag
- 7. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 7. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/304B24B9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
1.022 Patente in unserer Datenbank
Kanzlei
Wuesthoff & Wuesthoff
München, Deutschland
Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.
29.952
Patente gesamt
15
Patentanwälte
1
Standorte