Systeme zum Schutz Innerer Bauteile einer Euv-Lichtquelle vor Plasmaerzeugten Ablagerungen

EP1853882 Art B1 19. Oktober 2011

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1853882
Aktenzeichen: EP06735891
Anmeldetag: 24. Februar 2006
Veröffentlichung: 19. Oktober 2011
Erteilung: 19. Oktober 2011
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00G01J1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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