Zusammensetzung für den Unterschichtfilm aus Resist und Prozess zu Seiner Herstellung
EP1855159
Art A1
14. November 2007
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1855159
- Aktenzeichen
- EP06714631
- Anmeldetag
- 24. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 14. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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